化学的気相成長法の略。反応室に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、化学反応で基板表面に所望の膜を堆積する方法。半導体製造工程は、シリコンウェーハ上に回路形成で必要な配線材料や絶縁膜を作る。

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